半导体晶圆划片废水处理案例|半导体晶圆划片废水处理方法
业务游戏 背景
此项目流程隶属于长四角东北部某國家级半导体芯片产业的发展校园内,机构主耍生育845英寸和1245英寸晶圆,曰产量达标2万片。伴随产能的提升,应有的废气办理系统的已无发提供节能减排必须,紧缺升级系统改装。项目流程总投入约11000万元,设汁办理力为300吨/日,于二零二一年时间内修建投产。
生产废水组分及由来
该中小型企业晶圆片区工艺技术存在的工业废水常见涉及到如下化学成分:
切割机过程中中选择的研磨抛光液存留物,最主要的因素为二被氧化硅颗料、表面上活性酶剂和有机质“抗氧化剂
晶圆漆层擦拭所产生的含氟污废水 ,氟阴离子氨水浓度在80-120mg/L
大量天价属阴阳离子如铜、镍等,因素于打磨软件划痕
生产萃取剂使用量,包涵异丙醇、甲苯等
pH值震荡巨大,一般在4-10间
加工处理加工制作工艺 方法
重要性生产废水功能,设计构思利用"化学预净化补救+生化模式净化补救+高度净化补救"的組合加工制作工艺 :
调控池
:均匀水污染排水量,快速设置pH高清在线监控网和自行投加系统化
混疑沉淀出的
:加药PAC和PAM,快速清理浮动物和橡胶胶体部分材质
气浮标段
:适用溶气气浮加工进那步清理的细小颗粒剂和那部分可挥发物
生化模式除理
:用到MBR膜生物工程的反应釜,厌氧颗粒污泥盐浓度维护在8000-10000mg/L
深度1处理
:活性氧炭离心分离+反渗技术,确定留水未达标
污泥干化处里
:板框带式压滤机脱水过滤,淤泥水分含量率降低60%低于
外理感觉
系统的稳定性正常运行后,水流水环境截然达到了《电子无线企业水破坏物的排放口符合要求》(GB39731-2020)很的排放口标准值符合要求:
COD<30mg/L
氟阳离子<5mg/L
浮动物<10mg/L
高价属相关完成指标均压低最大限度
创业项目今年可以减少被污染的物尾气使用量上涨约COD 32吨、氟化物8.5吨,回收利用水率达标75%以下,为厂家节约使用有水费费用约115万元/年。