半导体含氟废水怎么处理方法|半导体含氟废水处理案例
大型项目时代背景
该中小企业专注产生半导体芯片用高纯氟化氢和六氟化钨,废气氟盐浓度不高且组分复杂性。原本有正确处工院艺效率不安全,氟化物尾气排放会时常超出标准。的投资项目费用2200万元制作专业书籍正确工作基础设施,的设计正确工作技能500吨/天。
废水处理含量及起源
工业废水包括根据生产的主设备拆洗和排放物洗衣:
氟阴阳离子氧浓度:1500-3500mg/L
含磷酸根阴阳离子:2000-5000mg/L
pH值:1-
含少量钨、钼等铝合金风格
正确处理工艺标准流程标准流程
涉及高密度优点,按照"中合+层级积淀+膜治理 "的工艺:
化工废渣获取池:细分获取有差异浓硫酸浓度化工废渣
中合想法池:分阶段性污泥脱水氢钝化钠和氢钝化钙,把握后面pH至7.5-8.
水解酸化池表现池:添加PAC和PAM资料水解结果
斜管滤渣池:效率高固液区分
多物料油烟净化器器:清掉狗狗细小病毒颗粒肥料
超滤性模式:深入脱盐和除氟
淤泥精浓脱干处理体统:离心力脱干处理后淤泥运输专科治理
百度在线评估设备:城市热力图监测氟阴离子密度和pH值
终极郊果
加工处理系统化运转信息:
入水氟阴阳离子平均值溶度:2800mg/L
出液氟铝离子盐浓度:3.2mg/L(均值)
氟消除率:99.9%以上的
水回收利用率:以达到65%
软件系统电气自动化系数高,确保电镀废水除理制造费减轻30%,年收售氟化钙副厂品约400吨。